Πηγαίνετε σε ένα σημείο του ευρετηρίου:
Αποτελέσματα 1 έως 1 από 1
ΤύποςΗμερομηνίαΤίτλοςΔημιουργόςΠλήρες κείμενο
Text
1998Etch resistance enhancement and absorbance optimization with polyaromatic compounds for the design of 193 nm photoresistsArgitis, P.; Vasilopoulou, M. A.; Gogolides, E.; Tegou, E.; Hatzakis, M.; Kollia, Zoe; Cefalas, Alciviadis Constantinos
Restricted access