X-ray microanalysis of optical materials for 157nm photolithography

Drazic, G.; Sarantopoulou, Evangelia; Kobe, S.; Kollia, Zoe; Cefalas, Alciviadis Constantinos

Παρακαλώ χρησιμοποιήστε αυτό το αναγνωριστικό για να παραπέμψετε ή να δημιουργήσετε σύνδεσμο προς αυτό το τεκμήριο: https://hdl.handle.net/10442/6319

Export to: BibTeX | EndNote | RIS

Εξειδίκευση τύπου :	Άρθρο σε επιστημονικό περιοδικό
Τίτλος:	X-ray microanalysis of optical materials for 157nm photolithography
Δημιουργός/Συγγραφέας:	Drazic, G. [EL] Σαραντοπούλου, Ευαγγελία[EN] Sarantopoulou, Evangelia Kobe, S. [EL] Κόλλια, Ζωή[EN] Kollia, Zoe [EL] Κεφαλάς, Αλκιβιάδης Κωνσταντίνος[EN] Cefalas, Alciviadis Constantinos
Εκδότης:	Pergamon-Elsevier Science Limited
Ημερομηνία:	2002
Γλώσσα:	Αγγλικά
ISSN:	1463-0184
DOI:	10.1016/s1463-0184(02)00044-8
Τίτλος πηγής δημοσίευσης:	Crystal Engineering
Τόμος/Κεφάλαιο:	5
Τεύχος:	3-4
Σελίδες:	327-334
Αξιολόγηση από ομότιμους (peer reviewed):	Ναι
Ηλεκτρονική διεύθυνση περιοδικού (link) :	http://www.sciencedirect.com/science/journal/14630184
Σημειώσεις:	Ερευνητικη ομάδα ΕΙΕ: Φωτονική για Νανοεφαρμογές Ερευνητικη ομάδα ΕΙΕ: Photonics for Nanoapplications
Εμφανίζεται στις συλλογές:	Ινστιτούτο Θεωρητικής και Φυσικής Χημείας (ΙΘΦΧ) - Επιστημονικό έργο

Αρχεία σε αυτό το τεκμήριο:

Αρχείο	Περιγραφή	Σελίδες	Μέγεθος	Μορφότυπος	Έκδοση	Άδεια
6319.pdf Restricted Access			80.63 kB	Adobe PDF	Δημοσιευμένη/του Εκδότη		Δείτε/ανοίξτε