Παρακαλώ χρησιμοποιήστε αυτό το αναγνωριστικό για να παραπέμψετε ή να δημιουργήσετε σύνδεσμο προς αυτό το τεκμήριο:
https://hdl.handle.net/10442/6335
| Εξειδίκευση τύπου : | Άρθρο σε επιστημονικό περιοδικό |
| Τίτλος: | Role of laser pulse duration and gas pressure in deposition of AIN thin films |
| Δημιουργός/Συγγραφέας: | Gyorgy, E.
Ristoscu, C.
Mihailescu, I. N.
Klini, A.
[EL] Βάϊνος, Νικόλαος A.[EN] Vainos, Nikolaos A.
Fotakis, C.
Ghica, C.
Schmerber, G.
Faerber, J. |
| Εκδότης: | American Institute of Physics |
| Ημερομηνία: | 2001 |
| Γλώσσα: | Αγγλικά |
| ISSN: | 0021-8979 |
| DOI: | 10.1063/1.1376417 |
| Τίτλος πηγής δημοσίευσης: | Journal of Applied Physics |
| Τόμος/Κεφάλαιο: | 90 |
| Τεύχος: | 1 |
| Σελίδες: | 456-461 |
| Αξιολόγηση από ομότιμους (peer reviewed): | Ναι |
| Κάτοχος πνευματικών δικαιωμάτων: | Copyright © 2001 American Institute of Physics |
| Όροι και προϋποθέσεις δικαιωμάτων: | Authors may post the Version of Record (VOR) 12 months after publication. This article may be downloaded for personal use only. Any other use requires prior permission of the author and AIP Publishing. This article appears in: “Journal of Applied Physics 90:1(2001): 456-461” and can be found at the following URL on the AIP website: http://dx.doi.org/10.1063/1.1376417 |
| Ηλεκτρονική διεύθυνση περιοδικού (link) : | http://jap.aip.org/jap/staff.jsp |
| Εμφανίζεται στις συλλογές: | Ινστιτούτο Θεωρητικής και Φυσικής Χημείας (ΙΘΦΧ) - Επιστημονικό έργο
|
