Παρακαλώ χρησιμοποιήστε αυτό το αναγνωριστικό για να παραπέμψετε ή να δημιουργήσετε σύνδεσμο προς αυτό το τεκμήριο: https://hdl.handle.net/10442/6369
Export to:   BibTeX  | EndNote  | RIS
Εξειδίκευση τύπου : Άρθρο σε επιστημονικό περιοδικό
Τίτλος: Absorbance and outgasing of photoresist polymeric materials for UV lithography below 193 nm including 157 nm lithography
Δημιουργός/Συγγραφέας: [EL] Κεφαλάς, Αλκιβιάδης Κωνσταντίνος[EN] Cefalas, Alciviadis Constantinossemantics logo
[EL] Σαραντοπούλου, Ευαγγελία[EN] Sarantopoulou, Evangeliasemantics logo
Gogolides, E.
Argitis, P.
Εκδότης: Elsevier BV
Ημερομηνία: 2000
Γλώσσα: Αγγλικά
ISSN: 0167-9317
DOI: 10.1016/s0167-9317(00)00278-1
Τίτλος πηγής δημοσίευσης: Microelectronic Engineering
Τόμος/Κεφάλαιο: 53
Τεύχος: 1-4
Σελίδες: 123-126
Αξιολόγηση από ομότιμους (peer reviewed): Ναι
Ηλεκτρονική διεύθυνση περιοδικού (link) : http://www.sciencedirect.com/science/journal/01679317
Σημειώσεις: Ερευνητικη ομάδα ΕΙΕ: Φωτονική για Νανοεφαρμογές
Ερευνητικη ομάδα ΕΙΕ: Photonics for Nanoapplications
Εμφανίζεται στις συλλογές:Ινστιτούτο Θεωρητικής και Φυσικής Χημείας (ΙΘΦΧ) - Επιστημονικό έργο

Αρχεία σε αυτό το τεκμήριο:
Αρχείο Περιγραφή ΣελίδεςΜέγεθοςΜορφότυποςΈκδοσηΆδεια
6369.pdf
  Restricted Access
288.16 kBAdobe PDFΔημοσιευμένη/του ΕκδότηincThumbnail
Δείτε/ανοίξτε