Current trends in 157 nm dry lithography

Cefalas, Alciviadis Constantinos

Παρακαλώ χρησιμοποιήστε αυτό το αναγνωριστικό για να παραπέμψετε ή να δημιουργήσετε σύνδεσμο προς αυτό το τεκμήριο: https://hdl.handle.net/10442/6554

Export to: BibTeX | EndNote | RIS

Εξειδίκευση τύπου :	Άρθρο σε επιστημονικό περιοδικό
Τίτλος:	Current trends in 157 nm dry lithography
Δημιουργός/Συγγραφέας:	[EL] Κεφαλάς, Αλκιβιάδης Κωνσταντίνος[EN] Cefalas, Alciviadis Constantinos
Εκδότης:	Elsevier BV, North-Holland
Ημερομηνία:	2005
Γλώσσα:	Αγγλικά
ISSN:	0169-4332
DOI:	10.1016/j.apsusc.2005.01.139
Τίτλος πηγής δημοσίευσης:	Applied Surface Science
Τόμος/Κεφάλαιο:	247
Τεύχος:	1-4
Σελίδες:	577-583
Αξιολόγηση από ομότιμους (peer reviewed):	Ναι
Ηλεκτρονική διεύθυνση περιοδικού (link) :	http://www.sciencedirect.com/science/journal/01694332
Σημειώσεις:	Ερευνητικη ομάδα ΕΙΕ: Φωτονική για Νανοεφαρμογές Ερευνητικη ομάδα ΕΙΕ: Photonics for Nanoapplications
Εμφανίζεται στις συλλογές:	Ινστιτούτο Θεωρητικής και Φυσικής Χημείας (ΙΘΦΧ) - Επιστημονικό έργο

Αρχεία σε αυτό το τεκμήριο:

Αρχείο	Περιγραφή	Σελίδες	Μέγεθος	Μορφότυπος	Έκδοση	Άδεια
6554.pdf Restricted Access			276.01 kB	Adobe PDF	Δημοσιευμένη/του Εκδότη		Δείτε/ανοίξτε