Παρακαλώ χρησιμοποιήστε αυτό το αναγνωριστικό για να παραπέμψετε ή να δημιουργήσετε σύνδεσμο προς αυτό το τεκμήριο: https://hdl.handle.net/10442/7009
Export to:   BibTeX  | EndNote  | RIS
Εξειδίκευση τύπου : Άρθρο σε επιστημονικό περιοδικό
Τίτλος: Mass spectroscopic and degassing characteristics of polymeric materials for 157 nm photolithography
Δημιουργός/Συγγραφέας: [EL] Κεφαλάς, Αλκιβιάδης Κωνσταντίνος[EN] Cefalas, Alciviadis Constantinossemantics logo
[EL] Σαραντοπούλου, Ευαγγελία[EN] Sarantopoulou, Evangeliasemantics logo
Argitis, P.
Gogolides, E.
Εκδότης: Springer
Ημερομηνία: 1999
Γλώσσα: Αγγλικά
ISSN: 0947-8396
DOI: 10.1007/s003399900358
Τίτλος πηγής δημοσίευσης: Applied Physics A: materials science & processing
Τόμος/Κεφάλαιο: 69
Σελίδες: S929-S933
Αξιολόγηση από ομότιμους (peer reviewed): Ναι
Ηλεκτρονική διεύθυνση περιοδικού (link) : http://www.springerlink.com/content/100501/
Σημειώσεις: Ερευνητικη ομάδα ΕΙΕ: Φωτονική για Νανοεφαρμογές
Ερευνητικη ομάδα ΕΙΕ: Photonics for Nanoapplications
Εμφανίζεται στις συλλογές:Ινστιτούτο Θεωρητικής και Φυσικής Χημείας (ΙΘΦΧ) - Επιστημονικό έργο

Αρχεία σε αυτό το τεκμήριο:
Αρχείο Περιγραφή ΣελίδεςΜέγεθοςΜορφότυποςΈκδοσηΆδεια
7009.pdf
  Restricted Access
105.37 kBAdobe PDFΔημοσιευμένη/του ΕκδότηincThumbnail
Δείτε/ανοίξτε