TY - JOUR ID - 10442/6539 A1 - Bellas, V. A1 - A1 - Tegou, E. A1 - A1 - Raptis, I. A1 - A1 - Gogolides, E. A1 - A1 - Argitis, P. A1 - A1 - Iatrou, H. A1 - A1 - Hadjichristidis, N. A1 - A1 - Sarantopoulou, E. A1 - A1 - Cefalas, A. C. Y1 - 2002/// T1 - Evaluation of siloxane and polyhedral silsesquioxane copolymers for 157 nm lithography JF - Journal of Vacuum Science & Technology B VL - 20 IS - 6 SN - 1071-1023 U3 - 10.1116/1.1526358 PB - American Institute of Physics SP - 2902–2908EP - UR - https://hdl.handle.net/10442/6539 ER -