Παρακαλώ χρησιμοποιήστε αυτό το αναγνωριστικό για να παραπέμψετε ή να δημιουργήσετε σύνδεσμο προς αυτό το τεκμήριο: https://hdl.handle.net/10442/16963
Export to:   BibTeX  | EndNote  | RIS
Εξειδίκευση τύπου : Άρθρο σε επιστημονικό περιοδικό
Τίτλος: Effects of hydrogen pressure on hydrogenated amorphous silicon thin films prepared by low-temperature reactive pulsed laser deposition
Δημιουργός/Συγγραφέας: Mellos A.
[EL] Κάνδυλα, Μαρία[EN] Kandyla, Mariasemantics logo
[EL] Παλλές, Δημήτρης[EN] Palles, Dimitrissemantics logo
[EL] Κομπίτσας, Μιχάλης[EN] Kompitsas, Michael G.semantics logo
Εκδότης: Wiley-VCH Verlag
Ημερομηνία: 2017
Γλώσσα: Αγγλικά
ISSN: 1862-6351
DOI: 10.1002/pssc.201600088
Περίληψη: We deposit intrinsic hydrogenated amorphous silicon (a-Si:H) thin films by reactive pulsed laser deposition, for various hydrogen pressures in the 0–20 Pa range, at a low deposition temperature of 120 °C, and investigate the hydrogen incorporation, structural, optical, and electrical properties of the films, as a function of the ambient hydrogen pressure. The film thickness decreases linearly as the hydrogen pressure increases. The hydrogen content of the films is determined by infrared spectroscopy and the optical bandgap from UV-Vis-NIR transmittance and reflectance measurements. Electric measurements yield the dark conductivity of the films. The hydrogen concentration of the films lies in the 1021–1022cm–3 range and increases with the hydrogen pressure until the latter reaches 15 Pa, beyond which the hydrogen concentration decreases. The optical bandgap and dark conductivity follow the hydrogen concentration variation of the films. The dark conductivity lies in the 10–9–10–10S/cm range. An unusually wide optical bandgap of 2.2–2.6 eV is observed.
Τίτλος πηγής δημοσίευσης: Physica Status Solidi (C) Current Topics in Solid State Physics
Τόμος/Κεφάλαιο: 14
Τεύχος: 1-2
Θεματική Κατηγορία: [EL] Φυσική και θεωρητική χημεία[EN] Physical and theoretical chemistrysemantics logo
Λέξεις-Κλειδιά: a-Si:H
hydrogen pressure
infrared spectroscopy
pulsed laser deposition
thin films
Αξιολόγηση από ομότιμους (peer reviewed): Ναι
Κάτοχος πνευματικών δικαιωμάτων: © 2016 WILEY-VCH Verlag GmbH & Co. KGaA, Weinheim
Όροι και προϋποθέσεις δικαιωμάτων: All Open Access, Green
Εμφανίζεται στις συλλογές:Ινστιτούτο Θεωρητικής και Φυσικής Χημείας (ΙΘΦΧ) - Επιστημονικό έργο

Αρχεία σε αυτό το τεκμήριο:
Το πλήρες κείμενο αυτού του τεκμηρίου δεν διατίθεται προς το παρόν από τον ΗΛΙΟ.