Παρακαλώ χρησιμοποιήστε αυτό το αναγνωριστικό για να παραπέμψετε ή να δημιουργήσετε σύνδεσμο προς αυτό το τεκμήριο:
https://hdl.handle.net/10442/6369[1]
A. C. Cefalas, E. Sarantopoulou, E. Gogolides, and P. Argitis, “Absorbance and outgasing of photoresist polymeric materials for UV lithography below 193 nm including 157 nm lithography,” Microelectronic Engineering, vol. 53, no. 1–4, pp. 123–126, 2000.
| Εξειδίκευση τύπου : | Άρθρο σε επιστημονικό περιοδικό |
| Τίτλος: | Absorbance and outgasing of photoresist polymeric materials for UV lithography below 193 nm including 157 nm lithography |
| Δημιουργός/Συγγραφέας: | [EL] Κεφαλάς, Αλκιβιάδης Κωνσταντίνος[EN] Cefalas, Alciviadis Constantinos [EL] Σαραντοπούλου, Ευαγγελία[EN] Sarantopoulou, Evangelia Gogolides, E. Argitis, P. |
| Εκδότης: | Elsevier BV |
| Ημερομηνία: | 2000 |
| Γλώσσα: | Αγγλικά |
| ISSN: | 0167-9317 |
| DOI: | 10.1016/s0167-9317(00)00278-1 |
| Τίτλος πηγής δημοσίευσης: | Microelectronic Engineering |
| Τόμος/Κεφάλαιο: | 53 |
| Τεύχος: | 1-4 |
| Σελίδες: | 123-126 |
| Αξιολόγηση από ομότιμους (peer reviewed): | Ναι |
| Ηλεκτρονική διεύθυνση περιοδικού (link) : | http://www.sciencedirect.com/science/journal/01679317 |
| Σημειώσεις: | Ερευνητικη ομάδα ΕΙΕ: Φωτονική για Νανοεφαρμογές Ερευνητικη ομάδα ΕΙΕ: Photonics for Nanoapplications |
| Εμφανίζεται στις συλλογές: | Ινστιτούτο Θεωρητικής και Φυσικής Χημείας (ΙΘΦΧ) - Επιστημονικό έργο |
Αρχεία σε αυτό το τεκμήριο:
| Αρχείο | Περιγραφή | Σελίδες | Μέγεθος | Μορφότυπος | Έκδοση | Άδεια | |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 6369.pdf Restricted Access | 288.16 kB | Adobe PDF | Δημοσιευμένη/του Εκδότη |  |  Δείτε/ανοίξτε |
