Absorbance and outgasing of photoresist polymeric materials for UV lithography below 193 nm including 157 nm lithography

Κεφαλάς, Αλκιβιάδης Κωνσταντίνος; Σαραντοπούλου, Ευαγγελία; Gogolides, E.; Argitis, P.

Παρακαλώ χρησιμοποιήστε αυτό το αναγνωριστικό για να παραπέμψετε ή να δημιουργήσετε σύνδεσμο προς αυτό το τεκμήριο: https://hdl.handle.net/10442/6369

Export to: BibTeX | EndNote | RIS

Εξειδίκευση τύπου :	Άρθρο σε επιστημονικό περιοδικό
Τίτλος:	Absorbance and outgasing of photoresist polymeric materials for UV lithography below 193 nm including 157 nm lithography
Δημιουργός/Συγγραφέας:	[EL] Κεφαλάς, Αλκιβιάδης Κωνσταντίνος[EN] Cefalas, Alciviadis Constantinos [EL] Σαραντοπούλου, Ευαγγελία[EN] Sarantopoulou, Evangelia Gogolides, E. Argitis, P.
Εκδότης:	Elsevier BV
Ημερομηνία:	2000
Γλώσσα:	Αγγλικά
ISSN:	0167-9317
DOI:	10.1016/s0167-9317(00)00278-1
Τίτλος πηγής δημοσίευσης:	Microelectronic Engineering
Τόμος/Κεφάλαιο:	53
Τεύχος:	1-4
Σελίδες:	123-126
Αξιολόγηση από ομότιμους (peer reviewed):	Ναι
Ηλεκτρονική διεύθυνση περιοδικού (link) :	http://www.sciencedirect.com/science/journal/01679317
Σημειώσεις:	Ερευνητικη ομάδα ΕΙΕ: Φωτονική για Νανοεφαρμογές Ερευνητικη ομάδα ΕΙΕ: Photonics for Nanoapplications
Εμφανίζεται στις συλλογές:	Ινστιτούτο Θεωρητικής και Φυσικής Χημείας (ΙΘΦΧ) - Επιστημονικό έργο

Αρχεία σε αυτό το τεκμήριο:

Αρχείο	Περιγραφή	Σελίδες	Μέγεθος	Μορφότυπος	Έκδοση	Άδεια
6369.pdf Restricted Access			288.16 kB	Adobe PDF	Δημοσιευμένη/του Εκδότη		Δείτε/ανοίξτε