Παρακαλώ χρησιμοποιήστε αυτό το αναγνωριστικό για να παραπέμψετε ή να δημιουργήσετε σύνδεσμο προς αυτό το τεκμήριο:
https://hdl.handle.net/10442/12550
Εξειδίκευση τύπου : | Άρθρο σε επιστημονικό περιοδικό |
Τίτλος: | Nitrogen flow rate as a new key parameter for the nitridation of electrolyte thin films |
Δημιουργός/Συγγραφέας: | Hamon, Y. Vinatier, P. [EL] Καμίτσος, Ευστράτιος Ι.[EN] Kamitsos, Efstratios I. Dussauze, M. [EL] Βαρσάμης, Χρήστος-Πλάτων Ε.[EN] Varsamis, Christos-Platon E. Zielniok, D. Roesser, C. Roling, B. |
Εκδότης: | Elsevier BV, North-Holland |
Τόπος έκδοσης: | AMSTERDAM |
Ημερομηνία: | 2008-09-15 |
Γλώσσα: | Αγγλικά |
ISSN: | 0167-2738 |
DOI: | 10.1016/j.ssi.2008.04.005 |
Περίληψη: | This work presents an investigation of the role of the nitrogen flow rate on the composition, structure and ionic conductivity of thin films prepared by reactive radio-frequency (rf) sputtering of lithium metaborate targets. It was found that sputtering at constant nitrogen pressure but with increasing nitrogen flow rate leads to thin films with significantly increased nitrogen content. The effect of nitridation on the borate network has been studied by infrared transmittance spectroscopy and revealed boron-nitrogen bonding in triangular arrangements of the glass network, followed by a parallel destruction of borate tetrahedral units. The ionic conductivity of thin films was also measured and found to increase with the nitrogen amount in the film. |
Όνομα εκδήλωσης: | 16th International Conference on Solid State Ionics |
Ημ/νία έναρξης εκδήλωσης : | 2007-07-01 |
Ημ/νία λήξης εκδήλωσης : | 2007-07-06 |
Τόπος εκδήλωσης: | Shanghai, PEOPLES R CHINA |
Τίτλος πηγής δημοσίευσης: | Solid State Ionics |
Τόμος/Κεφάλαιο: | 179 |
Τεύχος: | 21-26 |
Σελίδες: | 1223-1226 |
Θεματική Κατηγορία: | [EL] Χημεία (Γενικά)[EN] Chemistry (General) [EL] Φυσική[EN] Physics |
Λέξεις-Κλειδιά: | nitridation reactive sputtering solid electrolyte borate glasses Chemistry, Physical Physics, Condensed Matter |
Αξιολόγηση από ομότιμους (peer reviewed): | Ναι |
Κάτοχος πνευματικών δικαιωμάτων: | © 2008 Elsevier B.V. All rights reserved. |
Ηλεκτρονική διεύθυνση περιοδικού (link) : | http://www.elsevier.com/locate/ssi |
Εμφανίζεται στις συλλογές: | Ινστιτούτο Θεωρητικής και Φυσικής Χημείας (ΙΘΦΧ) - Επιστημονικό έργο
|