Παρακαλώ χρησιμοποιήστε αυτό το αναγνωριστικό για να παραπέμψετε ή να δημιουργήσετε σύνδεσμο προς αυτό το τεκμήριο: https://hdl.handle.net/10442/12550
Export to:   BibTeX  | EndNote  | RIS
Εξειδίκευση τύπου : Άρθρο σε επιστημονικό περιοδικό
Τίτλος: Nitrogen flow rate as a new key parameter for the nitridation of electrolyte thin films
Δημιουργός/Συγγραφέας: Hamon, Y.
Vinatier, P.
[EL] Καμίτσος, Ευστράτιος Ι.[EN] Kamitsos, Efstratios I.semantics logo
Dussauze, M.
[EL] Βαρσάμης, Χρήστος-Πλάτων Ε.[EN] Varsamis, Christos-Platon E.semantics logo
Zielniok, D.
Roesser, C.
Roling, B.
Εκδότης: Elsevier BV, North-Holland
Τόπος έκδοσης: AMSTERDAM
Ημερομηνία: 2008-09-15
Γλώσσα: Αγγλικά
ISBN: 0167-2738
DOI: 10.1016/j.ssi.2008.04.005
Περίληψη: This work presents an investigation of the role of the nitrogen flow rate on the composition, structure and ionic conductivity of thin films prepared by reactive radio-frequency (rf) sputtering of lithium metaborate targets. It was found that sputtering at constant nitrogen pressure but with increasing nitrogen flow rate leads to thin films with significantly increased nitrogen content. The effect of nitridation on the borate network has been studied by infrared transmittance spectroscopy and revealed boron-nitrogen bonding in triangular arrangements of the glass network, followed by a parallel destruction of borate tetrahedral units. The ionic conductivity of thin films was also measured and found to increase with the nitrogen amount in the film.
Όνομα εκδήλωσης: 16th International Conference on Solid State Ionics
Ημ/νία έναρξης εκδήλωσης : 2007-07-01
Ημ/νία λήξης εκδήλωσης : 2007-07-06
Τόπος εκδήλωσης: Shanghai, PEOPLES R CHINA
Τίτλος πηγής δημοσίευσης: Solid State Ionics
Τόμος/Κεφάλαιο: 179
Τεύχος: 21-26
Σελίδες: 1223-1226
Θεματική Κατηγορία: [EL] Χημεία (Γενικά)[EN] Chemistry (General)semantics logo
[EL] Φυσική[EN] Physicssemantics logo
Λέξεις-Κλειδιά: nitridation
reactive sputtering
solid electrolyte
borate glasses
Chemistry, Physical
Physics, Condensed Matter
Αξιολόγηση από ομότιμους (peer reviewed): Ναι
Κάτοχος πνευματικών δικαιωμάτων: © 2008 Elsevier B.V. All rights reserved.
Ηλεκτρονική διεύθυνση περιοδικού (link) : http://www.elsevier.com/locate/ssi
Εμφανίζεται στις συλλογές:Ινστιτούτο Θεωρητικής και Φυσικής Χημείας (ΙΘΦΧ) - Επιστημονικό έργο

Αρχεία σε αυτό το τεκμήριο:
Αρχείο Περιγραφή ΣελίδεςΜέγεθοςΜορφότυποςΈκδοσηΆδεια
12550.pdf
  Restricted Access
214.83 kBAdobe PDFΔημοσιευμένη/του ΕκδότηincΔείτε/ανοίξτε