Παρακαλώ χρησιμοποιήστε αυτό το αναγνωριστικό για να παραπέμψετε ή να δημιουργήσετε σύνδεσμο προς αυτό το τεκμήριο:
https://hdl.handle.net/10442/12618
Εξειδίκευση τύπου : | Άρθρο σε επιστημονικό περιοδικό |
Τίτλος: | Surface modification of polymeric thin films with vacuum ultraviolet light |
Δημιουργός/Συγγραφέας: | [EL] Σαραντοπούλου, Ευαγγελία[EN] Sarantopoulou, Evangelia Kovac, J. [EL] Κόλλια, Ζωή[EN] Kollia, Zoe Raptis, I. Kobe, S. [EL] Κεφαλάς, Αλκιβιάδης Κωνσταντίνος[EN] Cefalas, Alciviadis Constantinos |
Εκδότης: | John Wiley & Sons Limited |
Τόπος έκδοσης: | Chichester |
Ημερομηνία: | 2008-03-04 |
Γλώσσα: | Αγγλικά |
ISSN: | 0142-2421 |
DOI: | 10.1002/sia.2776 |
Περίληψη: | Spin-coated poly(methyl methacrylate) (PMMA) thin films on SiO2 substrate were chemically modified with laser light at 157 nm in nitrogen. Film changes involve bond breaking of polymeric chains, etching, and surface morphological changes. The 157 nm photons mainly dissociate the C-O, C=O, and C-H bonds, and catalyze the formation of new C-N bonds. The surface roughness of the irradiated films was changed with the formation of elongated patterns. The film thickness during irradiation was reduced with the rate of 0.005 nm at 1 mJ/cm(2). Furthermore, the PMMA film forms a thin interface layer with the SiO2 substrate. Its thickness was reduced following vacuum ultraviolet (VUV) irradiation due to photodissociation of molecules inside the interface layer. |
Τίτλος πηγής δημοσίευσης: | Surface and Interface Analysis |
Τόμος/Κεφάλαιο: | 40 |
Τεύχος: | 3-4 |
Σελίδες: | 400-403 |
Θεματική Κατηγορία: | [EL] Φυσική και θεωρητική χημεία[EN] Physical and theoretical chemistry |
Λέξεις-Κλειδιά: | PMMA VUV polymer surface modification interfaces VUV chemical modification etching 157 nm AFM XPS |
Αξιολόγηση από ομότιμους (peer reviewed): | Ναι |
Κάτοχος πνευματικών δικαιωμάτων: | © 2008 John Wiley & Sons, Ltd. |
Εμφανίζεται στις συλλογές: | Ινστιτούτο Θεωρητικής και Φυσικής Χημείας (ΙΘΦΧ) - Επιστημονικό έργο
|