Παρακαλώ χρησιμοποιήστε αυτό το αναγνωριστικό για να παραπέμψετε ή να δημιουργήσετε σύνδεσμο προς αυτό το τεκμήριο:
https://hdl.handle.net/10442/12621
Εξειδίκευση τύπου : | Άρθρο σε επιστημονικό περιοδικό |
Τίτλος: | Dynamics and Laser Processing of Functional Fluoride Organic Surfaces at VUV Wavelengths |
Δημιουργός/Συγγραφέας: | [EL] Σαραντοπούλου, Ευαγγελία[EN] Sarantopoulou, Evangelia [EL] Κόλλια, Ζωή[EN] Kollia, Zoe Chatzichristidi, Margarita Douvas, Antonios Argitistis, Panagiotis Kobe, Spomenka [EL] Κεφαλάς, Αλκιβιάδης Κωνσταντίνος[EN] Cefalas, Alciviadis Constantinos |
Εκδότης: | Japan Laser Processing Society |
Τόπος έκδοσης: | Osaka |
Ημερομηνία: | 2008-01 |
Γλώσσα: | Αγγλικά |
ISSN: | 1880-0688 |
Περίληψη: | The 157 nm laser ablation efficiency and the resolution limit of micro-patterned structures of fluoride based organic surfaces (polymers, monomers) depend on both the material's properties and the irradiation conditions, such as the laser's fluence and the beam diameter. For 1-10 mJ/cm(2) and beam diameter less than 10 mu m, accumulation of dissociated products on the irradiated surfaces prevented efficient laser ablation. The surface's etching rate for beam diameter larger than 10 mu m, was linearly depended on the fluence and it had the capacity of sub-nanometer resolution in the direction of the laser beam (perpendicular to the irradiated surface). In addition, it was found that the etching rate was proportional to the photodissociation rate of the materials (out-gassing rate). |
Τίτλος πηγής δημοσίευσης: | Journal of Laser Micro Nanoengineering |
Τόμος/Κεφάλαιο: | 3 |
Τεύχος: | 1 |
Σελίδες: | 24-29 |
Θεματική Κατηγορία: | [EL] Επιστήμη (Γενικά)[EN] Science (General) [EL] Τεχνολογία (Γενικά)[EN] Technology (General) [EL] Οπτική. Φώς[EN] Optics. Light |
Λέξεις-Κλειδιά: | VUV polymer etching surface treatment polymer out gassing micro fabrication micromachining light induced nanostructures fluoropolymers Nanoscience & Nanotechnology Materials Science, Multidisciplinary Physics, Applied |
Αξιολόγηση από ομότιμους (peer reviewed): | Ναι |
Κάτοχος πνευματικών δικαιωμάτων: | © JAPAN LASER PROCESSING SOC |
Εμφανίζεται στις συλλογές: | Ινστιτούτο Θεωρητικής και Φυσικής Χημείας (ΙΘΦΧ) - Επιστημονικό έργο
|
Αρχεία σε αυτό το τεκμήριο:
Το πλήρες κείμενο αυτού του τεκμηρίου δεν διατίθεται προς το παρόν από τον ΗΛΙΟ.