Εξειδίκευση τύπου :	Άρθρο σε επιστημονικό περιοδικό
Τίτλος:	Effects of MOCVD Thin Cobalt Films' Structure and Surface Characteristics on their Magnetic Behavior
Δημιουργός/Συγγραφέας:	Papadopoulos, Nikolaos Karayianni, Chaido-Stefania Tsakiridis, Petros [EL] Σαραντοπούλου, Ευαγγελία[EN] Sarantopoulou, Evangelia Hristoforou, Evangelos
Εκδότης:	Wiley-blackwell
Τόπος έκδοσης:	Malden
Ημερομηνία:	2011-09
Γλώσσα:	Αγγλικά
ISSN:	0948-1907
DOI:	10.1002/cvde.201106907
Περίληψη:	Cobalt thin films are deposited by metal-organic (MO) CVD, under various experimental conditions, on Si and SiO(2) substrates. The precursors used are cobalt nitrosyl tricarbonyl, Co(CO)(3)NO, cobalt acetylacetonate, Co(acac)(2), and cobalt carbonyl, Co(2)(CO)(8). Emphasis is given to the delivery method of each precursor, especially to a new technique of aerosol delivery. The films are thoroughly examined in terms of microstructure and surface morphology in order to establish relevance to magnetic properties. It is found that Co films deposited from Co(2)(CO)(8) dissolved in dichloromethane are characterized by a high degree of planarity and purity, while exhibiting a non-hysteretic giant magnetoresistance (GMR) behavior in the presence of an externally applied magnetic field normal to their surface.
Τίτλος πηγής δημοσίευσης:	Chemical Vapor Deposition
Τόμος/Κεφάλαιο:	17
Τεύχος:	7-9
Σελίδες:	211-220
Θεματική Κατηγορία:	[EL] Χημεία (Γενικά)[EN] Chemistry (General) [EL] Επιστήμη (Γενικά)[EN] Science (General) [EL] Τεχνολογία (Γενικά)[EN] Technology (General) [EL] Φυσική[EN] Physics
Λέξεις-Κλειδιά:	Aerosol Delivery Cobalt Magnetization MOCVD Precursors Thin Films Electrochemistry Materials Science, Coatings & Films Physics, Condensed Matter
Αξιολόγηση από ομότιμους (peer reviewed):	Ναι
Εμφανίζεται στις συλλογές:	Ινστιτούτο Θεωρητικής και Φυσικής Χημείας (ΙΘΦΧ) - Επιστημονικό έργο