Εξειδίκευση τύπου :	Άρθρο σε επιστημονικό περιοδικό
Τίτλος:	MOCVD Cobalt Oxide Deposition from Inclusion Complexes: Decomposition Mechanism, Structure, and Properties
Δημιουργός/Συγγραφέας:	Papadopoulos, N. D. Karayianni, H. S. Tsakiridis, P. E. Perraki, M. [EL] Σαραντοπούλου, Ευαγγελία[EN] Sarantopoulou, Evangelia Hristoforou, E.
Εκδότης:	Electrochemical Society Incorporated
Τόπος έκδοσης:	Pennington
Ημερομηνία:	2011
Γλώσσα:	Αγγλικά
ISSN:	0013-4651
DOI:	10.1149/1.3509698
Περίληψη:	A novel precursor based on the inclusion complex of beta-cyclodextrin with CoI(2) is proposed for the deposition of cobalt oxide films by metallorganic chemical vapor deposition (MOCVD). Deposition is viable through an abnormal behavior of the inclusion molecules during heating. A decomposition mechanism based on experimental results is proposed, while the films are examined in terms of microstructure, electrical, and magnetic properties. A uniform, nanocrystalline structure of Co(3)O(4) was revealed, along with impurities of silicide phases. The films presented a semiconducting behavior and minor in-plane magnetization.
Τίτλος πηγής δημοσίευσης:	Journal of the Electrochemical Society
Τόμος/Κεφάλαιο:	158
Τεύχος:	1
Σελίδες:	P5-P13
Θεματική Κατηγορία:	[EL] Χημεία (Γενικά)[EN] Chemistry (General) [EL] Επιστήμη (Γενικά)[EN] Science (General) [EL] Τεχνολογία (Γενικά)[EN] Technology (General)
Λέξεις-Κλειδιά:	Electrochemistry Materials Science, Coatings & Films
Αξιολόγηση από ομότιμους (peer reviewed):	Ναι
Κάτοχος πνευματικών δικαιωμάτων:	© 2010 The Electrochemical Society.
Εμφανίζεται στις συλλογές:	Ινστιτούτο Θεωρητικής και Φυσικής Χημείας (ΙΘΦΧ) - Επιστημονικό έργο