Παρακαλώ χρησιμοποιήστε αυτό το αναγνωριστικό για να παραπέμψετε ή να δημιουργήσετε σύνδεσμο προς αυτό το τεκμήριο: https://hdl.handle.net/10442/17265
Export to:   BibTeX  | EndNote  | RIS
Εξειδίκευση τύπου : Ανακοίνωση σε συνέδριο
Τίτλος: Hydrogenated amorphous silicon films grown by pulsed laser deposition
Δημιουργός/Συγγραφέας: [EL] Κάνδυλα, Μαρία[EN] Kandyla, Mariasemantics logo
Mellos A.
[EL] Κομπίτσας, Μιχάλης[EN] Kompitsas, Michael G.semantics logo
Εκδότης: IEEE Computer Society
Ημερομηνία: 2013
Γλώσσα: Αγγλικά
DOI: 10.1109/CLEOE-IQEC.2013.6801594
Περίληψη: Amorphous hydrogenated Si (a-Si:H) thin-film solar cells offer power conversion efficiencies up to 12% and use the advantage of the existing infrastructure of Si industry, therefore they are of high technologic interest. Moreover, amorphous Si is cost-effective compared to crystalline Si and it is only needed in small quantities for thin-film solar cell production on rigid or flexible substrates. Pulsed laser deposition (PLD) is a simple, versatile, and cost-effective technique [1] for the deposition of a-Si:H layers.
Όνομα εκδήλωσης: 2013 Conference on Lasers and Electro-Optics Europe and International Quantum Electronics Conference, CLEO/Europe-IQEC 2013
Ημ/νία έναρξης εκδήλωσης : 2013-05-12
Ημ/νία λήξης εκδήλωσης : 2013-05-16
Τόπος εκδήλωσης: Munich
Τίτλος πηγής δημοσίευσης: 2013 Conference on Lasers and Electro-Optics Europe and International Quantum Electronics Conference, CLEO/Europe-IQEC 2013
Θεματική Κατηγορία: [EL] Φυσική και θεωρητική χημεία[EN] Physical and theoretical chemistrysemantics logo
Αξιολόγηση από ομότιμους (peer reviewed): Ναι
Κάτοχος πνευματικών δικαιωμάτων: © 2013 IEEE.
Εμφανίζεται στις συλλογές:Ινστιτούτο Θεωρητικής και Φυσικής Χημείας (ΙΘΦΧ) - Επιστημονικό έργο

Αρχεία σε αυτό το τεκμήριο:
Το πλήρες κείμενο αυτού του τεκμηρίου δεν διατίθεται προς το παρόν από τον ΗΛΙΟ.