Παρακαλώ χρησιμοποιήστε αυτό το αναγνωριστικό για να παραπέμψετε ή να δημιουργήσετε σύνδεσμο προς αυτό το τεκμήριο: https://hdl.handle.net/10442/6385
Export to:   BibTeX  | EndNote  | RIS
Εξειδίκευση τύπου : Άρθρο σε επιστημονικό περιοδικό
Τίτλος: Photoresist materials for 157-nm photolithography
Δημιουργός/Συγγραφέας: [EL] Σαραντοπούλου, Ευαγγελία[EN] Sarantopoulou, Evangeliasemantics logo
[EL] Κεφαλάς, Αλκιβιάδης Κωνσταντίνος[EN] Cefalas, Alciviadis Constantinossemantics logo
Argitis, P.
Gogolides, E.
Εκδότης: Elsevier BV
Ημερομηνία: 2001
Γλώσσα: Αγγλικά
ISSN: 0928-4931
DOI: 10.1016/s0928-4931(01)00307-1
Τίτλος πηγής δημοσίευσης: Materials Science & Engineering C
Τόμος/Κεφάλαιο: 15
Τεύχος: 1-2
Σελίδες: 159-161
Αξιολόγηση από ομότιμους (peer reviewed): Ναι
Ηλεκτρονική διεύθυνση περιοδικού (link) : http://www.sciencedirect.com/science/journal/09284931
Σημειώσεις: Ερευνητικη ομάδα ΕΙΕ: Φωτονική για Νανοεφαρμογές
Ερευνητικη ομάδα ΕΙΕ: Photonics for Nanoapplications
Εμφανίζεται στις συλλογές:Ινστιτούτο Θεωρητικής και Φυσικής Χημείας (ΙΘΦΧ) - Επιστημονικό έργο

Αρχεία σε αυτό το τεκμήριο:
Αρχείο Περιγραφή ΣελίδεςΜέγεθοςΜορφότυποςΈκδοσηΆδεια
6385.pdf
  Restricted Access
61.71 kBAdobe PDFΔημοσιευμένη/του ΕκδότηincThumbnail
Δείτε/ανοίξτε