Photoresist materials for 157-nm photolithography

Σαραντοπούλου, Ευαγγελία; Κεφαλάς, Αλκιβιάδης Κωνσταντίνος; Argitis, P.; Gogolides, E.

Παρακαλώ χρησιμοποιήστε αυτό το αναγνωριστικό για να παραπέμψετε ή να δημιουργήσετε σύνδεσμο προς αυτό το τεκμήριο: https://hdl.handle.net/10442/6385

Export to: BibTeX | EndNote | RIS

Εξειδίκευση τύπου :	Άρθρο σε επιστημονικό περιοδικό
Τίτλος:	Photoresist materials for 157-nm photolithography
Δημιουργός/Συγγραφέας:	[EL] Σαραντοπούλου, Ευαγγελία[EN] Sarantopoulou, Evangelia [EL] Κεφαλάς, Αλκιβιάδης Κωνσταντίνος[EN] Cefalas, Alciviadis Constantinos Argitis, P. Gogolides, E.
Εκδότης:	Elsevier BV
Ημερομηνία:	2001
Γλώσσα:	Αγγλικά
ISSN:	0928-4931
DOI:	10.1016/s0928-4931(01)00307-1
Τίτλος πηγής δημοσίευσης:	Materials Science & Engineering C
Τόμος/Κεφάλαιο:	15
Τεύχος:	1-2
Σελίδες:	159-161
Αξιολόγηση από ομότιμους (peer reviewed):	Ναι
Ηλεκτρονική διεύθυνση περιοδικού (link) :	http://www.sciencedirect.com/science/journal/09284931
Σημειώσεις:	Ερευνητικη ομάδα ΕΙΕ: Φωτονική για Νανοεφαρμογές Ερευνητικη ομάδα ΕΙΕ: Photonics for Nanoapplications
Εμφανίζεται στις συλλογές:	Ινστιτούτο Θεωρητικής και Φυσικής Χημείας (ΙΘΦΧ) - Επιστημονικό έργο

Αρχεία σε αυτό το τεκμήριο:

Αρχείο	Περιγραφή	Σελίδες	Μέγεθος	Μορφότυπος	Έκδοση	Άδεια
6385.pdf Restricted Access			61.71 kB	Adobe PDF	Δημοσιευμένη/του Εκδότη		Δείτε/ανοίξτε