Παρακαλώ χρησιμοποιήστε αυτό το αναγνωριστικό για να παραπέμψετε ή να δημιουργήσετε σύνδεσμο προς αυτό το τεκμήριο: https://hdl.handle.net/10442/6319
Export to:   BibTeX  | EndNote  | RIS
Εξειδίκευση τύπου : Άρθρο σε επιστημονικό περιοδικό
Τίτλος: X-ray microanalysis of optical materials for 157nm photolithography
Δημιουργός/Συγγραφέας: Drazic, G.
[EL] Σαραντοπούλου, Ευαγγελία[EN] Sarantopoulou, Evangelia
Kobe, S.
[EL] Κόλλια, Ζωή[EN] Kollia, Zoe
[EL] Κεφαλάς, Αλκιβιάδης Κωνσταντίνος[EN] Cefalas, Alciviadis Constantinos
Εκδότης: Pergamon-Elsevier Science Limited
Ημερομηνία: 2002
Γλώσσα: Αγγλικά
ISBN: 1463-0184
DOI: 10.1016/s1463-0184(02)00044-8
Τίτλος πηγής δημοσίευσης: Crystal Engineering
Τόμος/Κεφάλαιο: 5
Τεύχος: 3-4
Σελίδες: 327-334
Αξιολόγηση από ομότιμους (peer reviewed): Ναι
Ηλεκτρονική διεύθυνση περιοδικού (link) : http://www.sciencedirect.com/science/journal/14630184
Σημειώσεις: Ερευνητικη ομάδα ΕΙΕ: Φωτονική για Νανοεφαρμογές
Ερευνητικη ομάδα ΕΙΕ: Photonics for Nanoapplications
Εμφανίζεται στις συλλογές:Ινστιτούτο Θεωρητικής και Φυσικής Χημείας (ΙΘΦΧ) - Επιστημονικό έργο

Αρχεία σε αυτό το τεκμήριο:
Αρχείο ΣελίδεςΜέγεθοςΜορφότυποςΈκδοσηΆδεια 
6319.pdf
  Restricted Access
80.63 kBAdobe PDFΔημοσιευμένη/του ΕκδότηΔείτε/ανοίξτε