Παρακαλώ χρησιμοποιήστε αυτό το αναγνωριστικό για να παραπέμψετε ή να δημιουργήσετε σύνδεσμο προς αυτό το τεκμήριο: https://hdl.handle.net/10442/6335
Export to:   BibTeX  | EndNote  | RIS
Εξειδίκευση τύπου : Άρθρο σε επιστημονικό περιοδικό
Τίτλος: Role of laser pulse duration and gas pressure in deposition of AIN thin films
Δημιουργός/Συγγραφέας: Gyorgy, E.
Ristoscu, C.
Mihailescu, I. N.
Klini, A.
[EL] Βάϊνος, Νικόλαος  A.[EN] Vainos, Nikolaos A.semantics logo
Fotakis, C.
Ghica, C.
Schmerber, G.
Faerber, J.
Εκδότης: American Institute of Physics
Ημερομηνία: 2001
Γλώσσα: Αγγλικά
ISBN: 0021-8979
DOI: 10.1063/1.1376417
Τίτλος πηγής δημοσίευσης: Journal of Applied Physics
Τόμος/Κεφάλαιο: 90
Τεύχος: 1
Σελίδες: 456-461
Αξιολόγηση από ομότιμους (peer reviewed): Ναι
Κάτοχος πνευματικών δικαιωμάτων: Copyright © 2001 American Institute of Physics
Όροι και προϋποθέσεις δικαιωμάτων: Authors may post the Version of Record (VOR) 12 months after publication. This article may be downloaded for personal use only. Any other use requires prior permission of the author and AIP Publishing. This article appears in: “Journal of Applied Physics 90:1(2001): 456-461” and can be found at the following URL on the AIP website: http://dx.doi.org/10.1063/1.1376417
Ηλεκτρονική διεύθυνση περιοδικού (link) : http://jap.aip.org/jap/staff.jsp
Εμφανίζεται στις συλλογές:Ινστιτούτο Θεωρητικής και Φυσικής Χημείας (ΙΘΦΧ) - Επιστημονικό έργο

Αρχεία σε αυτό το τεκμήριο:
Αρχείο Περιγραφή ΣελίδεςΜέγεθοςΜορφότυποςΈκδοσηΆδεια
ITHFX_AIP_30.pdf525.03 kBAdobe PDFΔημοσιευμένη/του ΕκδότηccbyncndThumbnail
Δείτε/ανοίξτε