Mass spectroscopic and degassing characteristics of polymeric materials for 157 nm photolithography

Κεφαλάς, Αλκιβιάδης Κωνσταντίνος; Σαραντοπούλου, Ευαγγελία; Argitis, P.; Gogolides, E.

Παρακαλώ χρησιμοποιήστε αυτό το αναγνωριστικό για να παραπέμψετε ή να δημιουργήσετε σύνδεσμο προς αυτό το τεκμήριο: https://hdl.handle.net/10442/7009

Export to: BibTeX | EndNote | RIS

Εξειδίκευση τύπου :	Άρθρο σε επιστημονικό περιοδικό
Τίτλος:	Mass spectroscopic and degassing characteristics of polymeric materials for 157 nm photolithography
Δημιουργός/Συγγραφέας:	[EL] Κεφαλάς, Αλκιβιάδης Κωνσταντίνος[EN] Cefalas, Alciviadis Constantinos [EL] Σαραντοπούλου, Ευαγγελία[EN] Sarantopoulou, Evangelia Argitis, P. Gogolides, E.
Εκδότης:	Springer
Ημερομηνία:	1999
Γλώσσα:	Αγγλικά
ISSN:	0947-8396
DOI:	10.1007/s003399900358
Τίτλος πηγής δημοσίευσης:	Applied Physics A: materials science & processing
Τόμος/Κεφάλαιο:	69
Σελίδες:	S929-S933
Αξιολόγηση από ομότιμους (peer reviewed):	Ναι
Ηλεκτρονική διεύθυνση περιοδικού (link) :	http://www.springerlink.com/content/100501/
Σημειώσεις:	Ερευνητικη ομάδα ΕΙΕ: Φωτονική για Νανοεφαρμογές Ερευνητικη ομάδα ΕΙΕ: Photonics for Nanoapplications
Εμφανίζεται στις συλλογές:	Ινστιτούτο Θεωρητικής και Φυσικής Χημείας (ΙΘΦΧ) - Επιστημονικό έργο

Αρχεία σε αυτό το τεκμήριο:

Αρχείο	Περιγραφή	Σελίδες	Μέγεθος	Μορφότυπος	Έκδοση	Άδεια
7009.pdf Restricted Access			105.37 kB	Adobe PDF	Δημοσιευμένη/του Εκδότη		Δείτε/ανοίξτε