Παρακαλώ χρησιμοποιήστε αυτό το αναγνωριστικό για να παραπέμψετε ή να δημιουργήσετε σύνδεσμο προς αυτό το τεκμήριο:
https://hdl.handle.net/10442/6539
| Εξειδίκευση τύπου : | Άρθρο σε επιστημονικό περιοδικό |
| Τίτλος: | Evaluation of siloxane and polyhedral silsesquioxane copolymers for 157 nm lithography |
| Δημιουργός/Συγγραφέας: | Bellas, V.
Tegou, E.
Raptis, I.
Gogolides, E.
Argitis, P.
Iatrou, H.
Hadjichristidis, N.
[EL] Σαραντοπούλου, Ευαγγελία[EN] Sarantopoulou, Evangelia
[EL] Κεφαλάς, Αλκιβιάδης Κωνσταντίνος[EN] Cefalas, Alciviadis Constantinos |
| Εκδότης: | American Institute of Physics |
| Ημερομηνία: | 2002 |
| Γλώσσα: | Αγγλικά |
| ISSN: | 1071-1023 |
| DOI: | 10.1116/1.1526358 |
| Τίτλος πηγής δημοσίευσης: | Journal of Vacuum Science & Technology B |
| Τόμος/Κεφάλαιο: | 20 |
| Τεύχος: | 6 |
| Σελίδες: | 2902-2908 |
| Αξιολόγηση από ομότιμους (peer reviewed): | Ναι |
| Κάτοχος πνευματικών δικαιωμάτων: | Copyright © 2002 American Institute of Physics |
| Όροι και προϋποθέσεις δικαιωμάτων: | American Institute of Physics grants the right to the authors for inclusion of their published articles in an institutional repository |
| Ηλεκτρονική διεύθυνση περιοδικού (link) : | http://scitation.aip.org/jvstb/ |
| Σημειώσεις: | Ερευνητικη ομάδα ΕΙΕ: Φωτονική για Νανοεφαρμογές
Ερευνητικη ομάδα ΕΙΕ: Photonics for Nanoapplications |
| Εμφανίζεται στις συλλογές: | Ινστιτούτο Θεωρητικής και Φυσικής Χημείας (ΙΘΦΧ) - Επιστημονικό έργο
|
Αρχεία σε αυτό το τεκμήριο:
Το πλήρες κείμενο αυτού του τεκμηρίου δεν διατίθεται προς το παρόν από τον ΗΛΙΟ.
