Πηγαίνετε σε ένα σημείο του ευρετηρίου:
Αποτελέσματα 1 έως 7 από 7
ΤύποςΗμερομηνίαΤίτλοςΔημιουργόςΠλήρες κείμενο
Text
1998Etch resistance enhancement and absorbance optimization with polyaromatic compounds for the design of 193 nm photoresistsArgitis, P.; Vasilopoulou, M. A.; Gogolides, E.; Tegou, E.; Hatzakis, M.; Κόλλια, Ζωή; Κεφαλάς, Αλκιβιάδης Κωνσταντίνος
Restricted access
Text
1999Mass spectroscopic and degassing characteristics of polymeric materials for 157 nm photolithographyΚεφαλάς, Αλκιβιάδης Κωνσταντίνος; Σαραντοπούλου, Ευαγγελία; Argitis, P.; Gogolides, E.
Restricted access
Text
2000Absorbance and outgasing of photoresist polymeric materials for UV lithography below 193 nm including 157 nm lithographyΚεφαλάς, Αλκιβιάδης Κωνσταντίνος; Σαραντοπούλου, Ευαγγελία; Gogolides, E.; Argitis, P.
Restricted access
Text
2001Photoresist materials for 157-nm photolithographyΣαραντοπούλου, Ευαγγελία; Κεφαλάς, Αλκιβιάδης Κωνσταντίνος; Argitis, P.; Gogolides, E.
Restricted access
Text
2002He-2 60-90 nm photon source for investigating photodissociation dynamics of potential X-UV resistsΚεφαλάς, Αλκιβιάδης Κωνσταντίνος; Σαραντοπούλου, Ευαγγελία; Argitis, P.; Gogolides, E.
Restricted access
Text
2002Evaluation of siloxane and polyhedral silsesquioxane copolymers for 157 nm lithographyBellas, V.; Tegou, E.; Raptis, I.; Gogolides, E.; Argitis, P.; Iatrou, H.; Hadjichristidis, N.; Σαραντοπούλου, Ευαγγελία; Κεφαλάς, Αλκιβιάδης Κωνσταντίνος
Metadata only
Text
2003The challenges of 157 nm nanolithography: surface morphology of silicon-based copolymersΣαραντοπούλου, Ευαγγελία; Κόλλια, Ζωή; Kocevar, K.; Musevic, I.; Kobe, S.; Drazic, G.; Gogolides, E.; Argitis, P.; Κεφαλάς, Αλκιβιάδης Κωνσταντίνος
Restricted access